反应式等离子体镀膜设备 (RPD)
反应式等离子体镀膜设备 (RPD)
技术特点 Features
· 具有低温与低轰击特性的RPD 装备是沉积种种薄膜时能� ；じ祁芽笪詹愕淖罴牙�。
· 直线式RPD 装备能坚持在真空情况下连续沉积钙钛矿所需种种ITO/IWO/ICO/Cu/SnO2 薄膜而不接触大气。
· �？榛腞PD 装备可以与钙钛矿吸收层ABX3 共蒸镀、NiO 磁控溅射相配套来节约钙钛矿元件开发的试验本钱。
· 种种冷阱、相邻镀膜腔工艺气氛阻遏与加热器等选项，可以让客户发挥更多的钙钛矿薄膜组合与接面特性剖析。
· RPD 镀膜适合钙钛矿、异质结太阳能电池、微型发光二极管与量子点显示器等的种种薄膜制备。
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多功效薄膜沉积设备(SPE)
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